在眾多的非金屬氧化物種類之中，二氧化矽鍍膜的工業用途最為廣泛。矽化合物有著眾多之前驅物(precursor)作為原料，包括矽烷、矽鹵化物、二氧化矽粉體或奈米顆粒、矽溶膠(colloidal silica)、水玻璃等，因而衍生多樣化製膜方法。綜合而論，主要常用的製膜方法以溶膠凝膠法、塗佈法與皮膜表面修飾等方法，個別方法各自採用不同之矽原料種類。溶膠凝膠法係採用矽烷或矽鹵化物做為原料，經由水解交聯形成非結晶二氧化矽(或稱不定型，amorphous silica)薄膜。

塗佈法則是採用包含二氧化矽奈米顆粒、矽溶膠或水玻璃等原料之塗覆液，將之塗覆於基材表面，經由適當之熟化(curing)步驟製膜。皮膜表面修飾法則是以矽烷為原料，由於矽烷有著豐富化學構造與化學反應，藉由縮合反應(condensation)將矽烷嫁接到某些薄膜表面，形成矽氧化學鍵，用以修飾或改良薄膜表面親疏水性質，或引入官能基，或形成無機有機複合膜。例如，金屬暴露於空氣中時，表面經過氧化而形成一層很薄的金屬氧化物，因而金屬表面氧化層具有羥基(hydroxyl group –M–OH)，與矽氧化合物可經由縮合反應生成–M–O–Si–O–化學鍵結，進而直接在金屬表面生長緻密之二氧化矽薄膜。